制冷产业网 > 行业资讯 > 技术中心 > 期刊书籍 > 1999年第3期

1999年第3期

2004年11月18 00:00:00 来源：中国空调制冷网
大直径硅片千兆技术的发展对洁净生产环境提出控制分子污染的要求。主要从“硅片隔离技术”和消除分子级污染的技术措施两方面着手。
上一篇：1999年第4期
下一篇：2000年1期

展会新闻

更多>>

参展企业

更多>>

行业新闻

更多>>

会展评述

更多>>

海外信息

更多>>

新品速递

更多>>

企业之窗

更多>>

人物专访

更多>>

市场分析

更多>>

标书

更多>>

联系方式


手机版查看本网页

微信公众号

个人微信

手机：13007606916
13223029089
电话：0371-60957609
联系人：赵经理
QQ:9797618


友情链接

地址：中国·郑州金水区 热线：13007606916,13223029089/ 0371-60957609 E-Mail：mqlbh2016@126.com, QQ:9797618
在线客服：QQ:9797618
Sitemap 网站地图